Low temperature grown GaNAsSb : a promising material for photoconductive switch application

We report a photoconductive switch using low temperature grown GaNAsSb as the active material. The GaNAsSb layer was grown at 200 °C by molecular beam epitaxy in conjunction with a radio frequency plasma-assisted nitrogen source and a valved antimony cracker source. The low temperature growth of the...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Li, D. S., Saadsaoud, N., Tripon-Canseliet, C., Lampin, J. F., Decoster, D., Chazelas, J., Yoon, Soon Fatt, Wicaksono, Satrio, Loke, Wan Khai, Tan, Kian Hua
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2013
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/105345
http://hdl.handle.net/10220/16573
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English