Low temperature grown GaNAsSb : a promising material for photoconductive switch application
We report a photoconductive switch using low temperature grown GaNAsSb as the active material. The GaNAsSb layer was grown at 200 °C by molecular beam epitaxy in conjunction with a radio frequency plasma-assisted nitrogen source and a valved antimony cracker source. The low temperature growth of the...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/105345 http://hdl.handle.net/10220/16573 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |