Study of the mask-less lithography system and its optimization for high resolution pattern of positive photoresist
The research aim is to investigate the optimal resolution of positive lithographic patterns under the 20x lens and the corresponding experimental parameters based on the DMD-based maskless lithography system. The experimental result is examined carefully with the assistance of SEM to check the accur...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Thesis-Master by Coursework |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
Nanyang Technological University
2024
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/178212 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Nanyang Technological University |
| اللغة: | English |