Optimization of metal barrier layers for enhanced SOI-based Ge PIN photodetector performance

This thesis investigates the optimization of titanium disilicide (TiSi₂) as a metal barrier layer for germanium PIN photodetectors on silicon-on-insulator (SOI) substrates to enhance their performance in high-speed optical communication systems. The study highlights the limitations of tantalum ni...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Xu, Hanyuan
مؤلفون آخرون: Tang Xiaohong
التنسيق: Thesis-Master by Coursework
اللغة:English
منشور في: Nanyang Technological University 2025
الموضوعات:
SOI
TaN
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/183095
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!