Development of a novel filtered cathodic vacuum arc deposition system for carbon metal nanocluster thin films

Carbon metal nanocluster (C:Me) films have been used to protect the metal nanoclusters from oxidation and enhance its properties, in the same time the incorporation of metal nanoclusters within the carbon thin film is also able to reduce the high compressive stress of the carbon film, improve its me...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Xu, Naiyun
مؤلفون آخرون: Tay Beng Kang
التنسيق: Theses and Dissertations
اللغة:English
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/61041
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English