Halftoning band gap of InAs/InP quantum dots using inductively coupled argon plasma-enhanced intermixing

Inductively coupled argon plasma-enhanced intermixing of InAs/InP quantum dots grown on InP substrate is investigated. Intermixing is promoted by the near-surface defects generated by plasma exposure in annealing at a temperature of 600  degrees celcius for 30 s. The annealing results in a maximum d...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Xu, C. D., Mei, Ting, Nie, Dong, Dong, Jian Rong
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2010
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/92080
http://hdl.handle.net/10220/6409
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English