Deposition of TiC film on titanium for abrasion resistant implant material by ion-enhanced triode plasma CVD
Deposition of titanium carbide (TiC) layer on titanium (Ti) surface has been demonstrated by an ion-enhanced triode plasma chemical vapor deposition (CVD) method using a TiCl4 + CH4 + H2 gas mixture. Physical and mechanical properties of the deposited TiC film on Ti were investigated to examine its...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2013
|
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/99245 http://hdl.handle.net/10220/11022 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Nanyang Technological University |
| اللغة: | English |