Stability of Al2O3 and Al2O3/a- SiNx:H stacks for surface passivation of crystalline silicon

• المؤلفون الرئيسيون: Dingemans, G., Engelhart, P., Seguin, R., Einsele, F., Hoex, B., Van De Sanden, M.C.M., Kessels, W.M.M.
• مؤلفون آخرون: SOLAR ENERGY RESEARCH INST OF S'PORE
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/113251
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1063/1.3264572