導出完成 — 

Hf-based high-K gate dielectric on high mobility channel for advanced CMOS devices

Ph.D

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書目詳細資料
主要作者: YEO CHIA CHING
其他作者: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
格式: Theses and Dissertations
語言:English
出版: 2010
主題:
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/15410
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