Transient Clustering of Reaction Intermediates during Wet Etching of Silicon Nanostructures

10.1021/acs.nanolett.7b00196

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: ZAINUL AABDIN, Xiu Mei Xu, Soumyo Sen, UTKARSH ANAND, Petr Kral, Frank Holsteyns, UTKUR MIRZIYODOVICH MIRSAIDOV
مؤلفون آخرون: CENTRE FOR ADVANCED 2D MATERIALS
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: Nano Letters 2020
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/177680
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore
اللغة: English