Large-area monoPoly solar cells on 110 μm thin c–Si wafers with a rear n+poly-Si/SiOx stack deposited by inline plasmaenhanced chemical vapour deposition
10.1002/pip.3555
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Naomi Nandakumar, John Woodrofee Rodriguez, PADHAMNATH PRADEEP, NITIN NAMPALLI, Aberle,Armin Gerhard, Shubham Duttagupta |
---|---|
مؤلفون آخرون: | SOLAR ENERGY RESEARCH INST OF S'PORE |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
Wiley
2022
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/217437 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Development of thin polysilicon layers for application in monoPoly (TM) cells with screen-printed and fired metallization
بواسطة: Pradeep Padhamnath, وآخرون
منشور في: (2020) -
Extremely low surface recombination velocities on heavily doped planar and textured p+ silicon using low-temperature positively-charged PECVD SiOx/SiNx dielectric stacks with optimised antireflective properties
بواسطة: Duttagupta, S., وآخرون
منشور في: (2014) -
Excellent boron emitter passivation for high-efficiency Si wafer solar cells using AlOx/SiNx dielectric stacks deposited in an industrial inline plasma reactor
بواسطة: Duttagupta, S., وآخرون
منشور في: (2014) -
Excellent surface passivation of heavily doped p+ silicon by low-temperature plasma-deposited SiOx/SiNy dielectric stacks with optimised antireflective performance for solar cell application
بواسطة: Duttagupta, S., وآخرون
منشور في: (2014) -
INDUSTRIAL DEPOSITION OF SILICON NITRIDE ON MC-SI FOR SOLAR CELL PRODUCTION EMPLOYING MICROWAVE PECVD
بواسطة: WU RUIHONG
منشور في: (2019)