A new insight into the degradation behavior of the LDD N-MOSFET during dynamic hot-carrier stressing
10.1109/55.962661
Saved in:
| 主要作者: | |
|---|---|
| 其他作者: | |
| 格式: | Article |
| 出版: |
2014
|
| 主題: | |
| 在線閱讀: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/54518 |
| 標簽: |
添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
|
| 機構: | National University of Singapore |