Germanium diffusion and nanocrystal formation in silicon oxide on silicon substrate under rapid thermal annealing

• المؤلفون الرئيسيون: Choi, W.K., Ho, V., Ng, V., Ho, Y.W., Ng, S.P., Chim, W.K.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/56134

10.1063/1.1891290