Via resistance reduction using "cool" PVD-Ta processing

Via resistance reduction using "cool" PVD-Ta processing

10.1149/1.1621417

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Seet, C.S., Zhang, B.C., Yong, C., Liew, S.L., Li, K., Hsia, L.C., Seng, H.L., Osiposwicz, T., Sudijono, J., Zeng, H.C., Tan, J.B.
مؤلفون آخرون: CHEMICAL & ENVIRONMENTAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/66899
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة

مواد مشابهة