Multiple-pulse laser annealing of boron-implanted preamorphized silicon and the process optimization

• المؤلفون الرئيسيون: Cho, B.J., Poon, D., Tan, L.S., Bhat, M., See, A.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/71059

Extended Abstracts of the Fourth International Workshop on Junction Technology, IWJT 2004