Path to achieve sub-10-nm half-pitch using electron beam lithography

• المؤلفون الرئيسيون: Tavakkoli, A.K.G., Piramanayagam, S.N., Ranjbar, M., Sbiaa, R., Chong, T.C.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/71379
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1116/1.3532938