Fermi-level pinning at the interface between metals and nitrogen-doped Ge2 Sb2 Te5 examined by x-ray photoelectron spectroscopy

10.1063/1.3263953

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Fang, L.W.-W., Zhao, R., Pan, J., Zhang, Z., Shi, L., Chong, T.-C., Yeo, Y.-C.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82354
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore