Germanium incorporation in Hf O2 dielectric on germanium substrate

• المؤلفون الرئيسيون: Zhang, Q., Wu, N., Lai, D.M.Y., Nikolai, Y., Bera, L.K., Zhu, C.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82410

10.1149/1.2160432