Physical and electrical characteristics of hafnium oxide films on AlGaN/GaN heterostructure grown by pulsed laser deposition

10.1016/j.tsf.2010.03.106

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Tian, F., Chor, E.F.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82902
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!