Physical and electrical characteristics of hafnium oxide films on AlGaN/GaN heterostructure grown by pulsed laser deposition
10.1016/j.tsf.2010.03.106
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82902 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|