Platinum germanosilicide as source/drain contacts in P-channel fin field-effect transistors (FinFETs)

10.1109/TED.2009.2021351

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lee, R.T.P., Chi, D.Z., Yeo, Y.-C.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82918
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore