AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor high-electron-mobility transistors with a high breakdown voltage of 1400 v and a complementary metal-oxide- semiconductor compatible gold-free process
10.7567/JJAP.52.04CF06
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83449 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |