Nickel silicidation on polycrystalline silicon germanium films

• المؤلفون الرئيسيون: Choi, W.K., Pey, K.L., Zhao, H.B., Osipowicz, T., Shen, Z.X.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/84011

International Journal of Modern Physics B