STUDI PENGARUH TEMPEI ATUR PENUMBUHAN TERHADAP KUALITAS FILM TIPIS GAN DITUMBUHKAN DENGAN TEKNIK PULSED LASER DEPOSITION
GaN thin film has been grown on sapphire (0001) substrate using a pulsed laser deposition technique. The N2 gass with 100 sccm flow rate, is used to keep the thin film stoichiometric. The growth temperature was varied from 650°C, 680°C to 700°C. GaN film was analized by mean of Profilometer Dekta...
Saved in:
Main Author: | WIDIYANDARI , HENDRI |
---|---|
Format: | Theses |
Language: | Indonesia |
Online Access: | https://digilib.itb.ac.id/gdl/view/1838 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Institution: | Institut Teknologi Bandung |
Language: | Indonesia |
Similar Items
-
STUDI PENGARUH TEMPERATUR PENUMBUHAN TERHADAP KUALITAS FILM TIPIS GAN DITUMBUHKAN DENGAN TEKNIK PULSED LASER DEPOSITION
by: Widiyandari, Hendri -
STUDI KETEBALAN LAPISAN PENYANGGA GAN TERHADAP STRUKTUR KRISTAL DAN SIFAT OPTIK FILM TIPIS GAN DITUMBUHKAN DENGAN METODA PULSED LASER DEPOSITION
by: Gusti Agung Putra Adnyana, I -
STUDI PENGARUH LAPISAN PENYANGGA TERHADAP KUALITAS FILM TIPIS GAN DITUMBUHKAN DENGAN METODE MOCVD BERBANTUAN PLASMA
by: S. Hasan , Erzam -
DEPOSISI FILM TIPIS FERROELEKTRIK DENGAN METODE PULSE LASER DEPOSITION DAN KARAKTERISASINYA
by: AWITDRUS -
PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS A-SI:H DENGAN METODA HW-PECVD DAN APLIKASINYA PADA TRANSISTOR LAPISAN TIPIS
by: Ahda, Syahfandi