Leakage current conduction mechanism of three-dimensional capacitors embedded in through-silicon vias

Leakage current conduction mechanism of three-dimensional capacitors embedded in through-silicon vias has been investigated for two sets of test vehicles, namely "sputtering samples" and "atomic layer deposition (ALD) samples". Schottky emission, hopping conduction, Poole-Frenkel...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lin, Ye, Tan, Chuan Seng
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2020
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/142599
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!