Leakage current conduction mechanism of three-dimensional capacitors embedded in through-silicon vias
Leakage current conduction mechanism of three-dimensional capacitors embedded in through-silicon vias has been investigated for two sets of test vehicles, namely "sputtering samples" and "atomic layer deposition (ALD) samples". Schottky emission, hopping conduction, Poole-Frenkel...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2020
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/142599 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|