Investigation of a modified NPN transistor in CMOS structures for enhanced ESD-induced latch-up protection
Integrated circuits (ICs) are vital in modern electronics, including everyday life, industrial manufacturing and military equipment. Reducing transistor size and improving performance requires shrinking the gate oxide layer, which makes ICs more fragile and vulnerable to electrostatic discharg...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Thesis-Master by Coursework |
اللغة: | English |
منشور في: |
Nanyang Technological University
2023
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/172084 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |