Filtered cathodic vacuum arc deposition of metal nitrides
The numerous applications of group III nitride semiconductors have attracted significant research interest over the last decade. A novel ion-beam assisted filtered cathodic vacuum arc (I-FCVA) technique has been developed to fabricate III nitrides using pure metallic target as metal source. For the...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Theses and Dissertations |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2009
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/19083 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|