Investigation of ultra high-speed heterojunction bipolar transistors fabricated in molecular beam epitaxy technology

The objective is to develop a baseline fabrication technology for GaAs-based Heterojunction Bipolar Transistor (HBTs) based on our existing clean room facilities.

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Yoon, Soon Fatt.
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: Research Report
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/2988
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University