Investigation of ultra high-speed heterojunction bipolar transistors fabricated in molecular beam epitaxy technology
The objective is to develop a baseline fabrication technology for GaAs-based Heterojunction Bipolar Transistor (HBTs) based on our existing clean room facilities.
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Research Report |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/2988 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |