Analysis of mesoporous ultra low K dielectric materials for microelectronic interconnects

The project analysed the mesoporous ultra low K dielectric materials for microelectronic interconnects.

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي:	Goh, Tat Kean.
مؤلفون آخرون:	Wong, Terence Kin Shun
التنسيق:	Theses and Dissertations
منشور في:	2008
الموضوعات:	DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering::Electric apparatus and materials
الوصول للمادة أونلاين:	http://hdl.handle.net/10356/4303
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

http://hdl.handle.net/10356/4303

مواد مشابهة