Development of silicon carbide thin films for optoelectronic device applications

In this project, the electron cyclotron resonance chemical vapour deposition (ECR-CVD) technique has been used to deposit amorphous (a-SiC:H) and microcrystalline (mc-SiC3-I) films for characterisation of their optical, electrical and structural properties using transmittance/reflectance measuremen...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Ji, Rong
مؤلفون آخرون: Yoon, Soon Fatt
التنسيق: Theses and Dissertations
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/4461
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!