Development of silicon carbide thin films for optoelectronic device applications
In this project, the electron cyclotron resonance chemical vapour deposition (ECR-CVD) technique has been used to deposit amorphous (a-SiC:H) and microcrystalline (mc-SiC3-I) films for characterisation of their optical, electrical and structural properties using transmittance/reflectance measuremen...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/4461 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|