Deposition, characterization, and device fabrication of GaN and AlN based thin film materials

With the wide appealing application of GaN in electronic and optoelectronic device, many researchers had come out with innovative ways of preventing the cracks and reduction of strain at the interface. This is due to the different in CTE and approximately 16.9% lattice mismatch between GaN and Si su...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Ashraf Uddin.
مؤلفون آخرون: School of Materials Science & Engineering
التنسيق: Research Report
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/5027
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University