Triggering voltage for post-breakdown random telegraph noise in HfLaO dielectric metal gate metal-oxide-semiconductor field effect transistors and its reliability implications
We report a triggering voltage Vtrig for observing gate leakage current (Ig) random telegraph noise (RTN) in the post-breakdown regime of HfLaO dielectric metal gate stacks. Vtrig, the onset voltage to observe RTN in degraded dielectrics, is highly dependent on breakdown hardness, which is controlle...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/96328 http://hdl.handle.net/10220/10027 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |