Triggering voltage for post-breakdown random telegraph noise in HfLaO dielectric metal gate metal-oxide-semiconductor field effect transistors and its reliability implications

We report a triggering voltage Vtrig for observing gate leakage current (Ig) random telegraph noise (RTN) in the post-breakdown regime of HfLaO dielectric metal gate stacks. Vtrig, the onset voltage to observe RTN in degraded dielectrics, is highly dependent on breakdown hardness, which is controlle...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Liu, W. H., Pey, Kin Leong, Raghavan, Nagarajan, Wu, X., Bosman, Michel
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2013
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/96328
http://hdl.handle.net/10220/10027
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!