Roughening behavior in Si/SiGe heterostructures under O2 + bombardment

10.1016/S0168-583X(03)01711-7

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lau, G.S., Tok, E.S., Liu, R., Wee, A.T.S., Zhang, J.
مؤلفون آخرون: INSTITUTE OF ENGINEERING SCIENCE
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/113101
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!