Growth mechanisms in thin film epitaxy of Si/SiGe from hydrides

10.1016/S0921-5107(01)00842-X

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書目詳細資料
Main Authors: Zhang, J., Woods, N.J., Breton, G., Price, R.W., Hartell, A.D., Lau, G.S., Liu, R., Wee, A.T.S., Tok, E.S.
其他作者: INSTITUTE OF ENGINEERING SCIENCE
格式: Conference or Workshop Item
出版: 2014
主題:
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/113115
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機構: National University of Singapore