Roughening behavior in Si/SiGe heterostructures under O2 + bombardment

10.1016/S0168-583X(03)01711-7

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書目詳細資料
Main Authors: Lau, G.S., Tok, E.S., Liu, R., Wee, A.T.S., Zhang, J.
其他作者: INSTITUTE OF ENGINEERING SCIENCE
格式: Article
出版: 2014
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/113101
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機構: National University of Singapore