The augmented saddle field discharge characteristics and its applications for plasma enhanced chemical vapour deposition
10.1063/1.4798928
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Conference or Workshop Item |
| منشور في: |
2016
|
| الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/128760 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|