INVESTIGATION ON DELAMINATION OF SILVER THIN FILM SPUTTERED ON SILICON DIOXIDE SURFACE
Master's
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | NEELAKANDAN SIVANANTHAM |
---|---|
مؤلفون آخرون: | MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2018
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/142722 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Fabrication and characterization of granular Co-SiO2 films and devices
بواسطة: ZHAO QIANG
منشور في: (2010) -
Alloy effects on nickel silicides formation and the investigation of NiSi as electrode material of ZnO devices
بواسطة: REN WEI
منشور في: (2010) -
The decomposition mechanism of SiO2 with the deposition of oxygen-deficient M(Hf or Zr)Ox films
بواسطة: Li, Q., وآخرون
منشور في: (2014) -
Electrical and structural properties of rapid thermal annealed RF sputtered silicon oxide films
بواسطة: Choi, W.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Study of interactions between α-Ta films and SiO2 under rapid thermal annealing
بواسطة: Yuan, Z.L., وآخرون
منشور في: (2014)