Spatially-programmable thermal processing module for 300 mm wafer processing

10.1117/12.425238

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Tay, A., Khiang Wee Lim, Ai Poh Loh, Woei Wan Tan, Weng Khuen Ho, Huang, A., Fu, J.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الموضوعات:	300 mm wafer processing Lithography Photoresist processing Temperature control
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/71836
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة