Mask error enhancement factor for sub 0.13μm lithography

10.1117/12.435788

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Tan, S.K., Lin, Q., Quan, C., Tay, C.J., See, A.
مؤلفون آخرون:	PHYSICS
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الموضوعات:	DUV scanner Half-tone PSM MEEF NA/PC Resists
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/73584
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة