Fast ICCD imaging of KrF excimer laser induced titanium plasma plumes for silicon metallization

Applied Surface Science

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Hong, M.H., Lu, Y.F., Ho, T.M., Lu, L.W., Low, T.S.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80414
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة