Formation of voids in Ti-salicided BF+ 2-doped submicron polysilicon lines

Journal of Applied Physics

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書目詳細資料
Main Authors: Chua, H.N., Pey, K.L., Lai, W.H., Siah, S.Y.
其他作者: ELECTRICAL ENGINEERING
格式: Article
出版: 2014
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80447
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實物特徵
總結:Journal of Applied Physics