Inductively coupled plasma etching of GaN using BCl3/Cl2 chemistry and photoluminescence studies of the etched samples

• المؤلفون الرئيسيون: Remashan, K., Chua, S.J., Ramam, A., Prakash, S., Liu, W.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80593
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1088/0268-1242/15/4/313