Low Vt gate-first Al/TaN/[Ir3Si-HfSi 2-x]/HfLaON CMOS using simple laser annealing/reflection

10.1109/VLSIT.2008.4588614

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Liao, C.C., Chin, A., Su, N.C., Li, M.-F., Wang, S.J.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83909
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة