Formation of FeSi and FeSi2 films from cis-Fe(SiCl3)2(CO)4 by MOCVD -precursor versus substrate control
Inorganica Chimica Acta
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| 格式: | Article |
| 出版: |
2014
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| 在線閱讀: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/93845 |
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