Role of low temperature rapid thermal annealing in post-laser-annealed p-channel metal-oxide-semiconductor field effect transistor

• المؤلفون الرئيسيون: Ong, K.K., Pey, K.L., Lee, P.S., Wee, A.T.S., Wang, X.C., Tung, C.H., Tang, L.J., Chong, Y.F.
• مؤلفون آخرون: PHYSICS
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/97835

10.1063/1.2354446