Optimization and comparison of argon plasma-induced quantum well intermixing using RIE and ICP
In this project, a novel quantum well intermixing (QWI) technique using inductively-coupled (ICP) and reactive-ion etcher (RIE) Argon plasma exposure has been developed.
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Theses and Dissertations |
| منشور في: |
2008
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/4597 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|