Multiple-pulse laser thermal annealing for the formation of Co-silicided junction

Formation of Co-silicide contact layers on narrow silicon regions using multiple-pulse excimer laser annealing is demonstrated. Excellent performance of junction leakage behavior can be attained on narrow-wi...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lee, Pooi See, Pey, Kin Leong, Chow, F. L., Tang, L. J., Tung, Chih Hang, Wang, X. C., Lim, G. C.
مؤلفون آخرون: School of Materials Science & Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2012
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/95649
http://hdl.handle.net/10220/8339
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!