The use of sample rotation in SIMS profiling of Ta barrier layers to Cu diffusion

• المؤلفون الرئيسيون: Liu, R., Wee, A.T.S., Liu, L., Hao, G.
• مؤلفون آخرون: INSTITUTE OF ENGINEERING SCIENCE
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الموضوعات: Cu metallization; Sample rotation; Secondary ion mass spectrometry; Ta barriers
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/113122
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1117/12.405375