X-ray lithography of SU8 photoresist using fast miniature plasma focus device and its characterization using FTIR spectroscopy

• المؤلفون الرئيسيون: Kalaiselvi, Shenbaga M. P., Tan, Augustine Tuck Lee, Talebitaher, Alireza R., Lee, Paul, Heussler, Sascha Pierre, Breese, Mark Brian H., Rawat, Rajdeepsingh
• مؤلفون آخرون: PHYSICS
• التنسيق: مقال
• منشور في: Elsevier 2016
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/123571

10.1016/j.physleta.2014.12.007