Tuning the conductivity threshold and carrier density of two-dimensional electron gas at oxide interfaces through interface engineering

10.1063/1.4929772

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Ma, H.J.H, Zeng, S.W, Annadi, A, Huang, Z, Venkatesan, T, Ariando, NUSNNI-Nanocore, National University of Singapore117411, Singapore, Department of Physics, National University of Singapore117542, Singapore
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL AND COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2020
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/174635
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore

مواد مشابهة